在半導體 MEMS 器件檢測領域，微光顯微鏡憑借其超靈敏的感知能力，展現出不可替代的技術價值。MEMS 器件的結構往往以微米級尺度存在，這些微小部件在運行過程中會產生極其微弱的紅外輻射變化 一一 這種信號強度常低于常規檢測設備的感知閾值，卻能被微光顯微鏡及時捕捉。通過先進的光電轉換與信號放大技術，微光設備將捕捉到的紅外輻射信號轉化為直觀的動態圖像。通過圖像分析工具，可量化提取結構的位移幅度、振動頻率等關鍵參數。這種檢測方式突破了傳統接觸式測量對微結構的干擾問題。針對氮化鎵等寬禁帶半導體，它能適應其寬波長探測需求，助力寬禁帶器件的研發與應用。高分辨率微光顯微鏡售價

EMMI的本質只是一臺光譜范圍廣，光子靈敏度高的顯微鏡。

但是為什么EMMI能夠應用于IC的失效分析呢？

原因就在于集成電路在通電后會出現三種情況：1.載流子復合；2.熱載流子；3.絕緣層漏電。當這三種情況發生時集成電路上就會產生微弱的熒光，這時EMMI就能捕獲這些微弱熒光，這就給了EMMI一個應用的機會而在IC的失效分析中，我們給予失效點一個偏壓產生熒光，然后EMMI捕獲電流中產生的微弱熒光。原理上，不管IC是否存在缺陷，只要滿足其機理在EMMI下都能觀測到熒光 直銷微光顯微鏡性價比微光顯微鏡能檢測半導體器件微小缺陷和失效點，及時發現隱患，保障設備可靠運行、提升通信質量。

微光顯微鏡技術特性差異

探測靈敏度方向：EMMI 追求對微弱光子的高靈敏度（可檢測單光子級別信號），需配合暗場環境減少干擾；熱紅外顯微鏡則強調溫度分辨率（部分設備可達 0.01℃），需抑制環境熱噪聲。

空間分辨率：EMMI 的分辨率受光學系統和光子波長限制，通常在微米級；熱紅外顯微鏡的分辨率與紅外波長、鏡頭數值孔徑相關，一般略低于 EMMI，但更注重大面積熱分布的快速成像。

樣品處理要求：EMMI 對部分遮蔽性失效（如金屬下方漏電）需采用背面觀測模式，可能需要減薄、拋光樣品；

處理要求：熱紅外顯微鏡可透過封裝材料（如陶瓷、塑料）探測，對樣品破壞性較小，更適合非侵入式初步篩查。

選擇國產 EMMI 微光顯微鏡，既是擁抱技術自主，更是搶占效率與成本的雙重優勢！致晟光電全本土化研發實力，與南京理工大學光電技術學院深度攜手，致力于光電技術研究和產業化應用，充分發揮其科研優勢，構建起產學研深度融合的技術研發體系。

憑借這一堅實后盾，我們的 EMMI 微光顯微鏡在性能上實現更佳突破：-80℃制冷型探測器搭配高分辨率物鏡，輕松捕捉極微弱漏電流光子信號，漏電缺陷定位精度與國際設備同步，讓每一個細微失效點無所遁形。 晶體管和二極管短路或漏電時，微光顯微鏡依其光子信號判斷故障類型與位置，利于排查電路故障。

致晟光電 RTTLIT E20 微光顯微分析系統（EMMI）是一款專為半導體器件漏電缺陷檢測量身打造的高精度檢測設備。該系統搭載先進的 - 80℃制冷型 InGaAs 探測器與高分辨率顯微物鏡，憑借超高檢測靈敏度，可捕捉器件在微弱漏電流信號下產生的極微弱微光。通過超高靈敏度成像技術，設備能快速定位漏電缺陷并開展深度分析，為工程師優化生產工藝、提升產品可靠性提供關鍵支持，進而為半導體器件的質量控制與失效分析環節提供安全可靠的解決方案。微光顯微鏡的便攜款桌面級設計，方便在生產線現場快速檢測，及時發現產品問題，減少不合格品流出。直銷微光顯微鏡性價比

微光顯微鏡可搭配偏振光附件，分析樣品的偏振特性，為判斷晶體缺陷方向提供獨特依據，豐富檢測維度。高分辨率微光顯微鏡售價

失效分析是指通過系統的檢測、實驗和分析手段，探究產品或器件在設計、生產、使用過程中出現故障、性能異常或失效的根本原因，進而提出改進措施以預防同類問題再次發生的技術過程。它是連接產品問題與解決方案的關鍵環節，**在于精細定位失效根源，而非*關注表面現象。在半導體行業，失效分析具有不可替代的應用價值，貫穿于芯片從研發到量產的全生命周期。

在研發階段，針對原型芯片的失效問題（如邏輯錯誤、漏電、功耗過高等），通過微光顯微鏡、探針臺等設備進行失效點定位，結合電路仿真、材料分析等手段，可追溯至設計缺陷（如布局不合理、時序錯誤）或工藝參數偏差，為芯片設計優化提供直接依據；在量產環節，當出現批量性失效時，失效分析能快速判斷是光刻、蝕刻等制程工藝的穩定性問題，還是原材料（如晶圓、光刻膠）的質量波動，幫助生產線及時調整參數，降低報廢率；在應用端，針對芯片在終端設備（如手機、汽車電子）中出現的可靠性失效（如高溫環境下性能衰減、長期使用后的老化失效），通過環境模擬測試、失效機理分析，可推動芯片在封裝設計、材料選擇上的改進，提升產品在復雜工況下的穩定性。 高分辨率微光顯微鏡售價