鎖相熱成像系統的組件各司其職，共同保障了系統的高效運行。可調諧激光器作為重要的熱源，能夠提供穩定且可調節頻率的周期性熱激勵，以適應不同被測物體的特性；紅外熱像儀則如同 “眼睛”，負責采集物體表面的溫度場分布，其高分辨率確保了溫度信息的細致捕捉；鎖相放大器是系統的 “中樞處理器” 之一，專門用于從復雜的信號中提取與激勵同頻的相位信息，過濾掉無關噪聲；數據處理單元則對收集到的信息進行綜合處理和分析，**終生成清晰、直觀的缺陷圖像。這些組件相互配合、協同工作，每個環節的運作都不可或缺，共同確保了系統能夠實現高分辨率、高對比度的檢測效果，滿足各種高精度檢測需求。電激勵的脈沖寬度與鎖相熱成像系統采樣頻率需匹配，通過參數優化可大幅提高檢測信號的信噪比和清晰度。芯片用鎖相紅外熱成像系統功能

在當今高科技蓬勃發展的時代，鎖相紅外熱成像系統也成其為“RTTLIT"以其獨特的優勢，正逐漸成為紅外檢測領域的新寵。該系統采用先進的鎖相技術，能夠捕捉目標物體的微小溫度變化，為各行業提供前所未有的熱成像解決方案。鎖相紅外熱成像系統優勢在于其高靈敏度和高分辨率的熱成像能力。無論是在復雜的工業環境中，還是在精密的科研實驗中，該系統都能以超凡的性能，準確快速地識別出熱異常，從而幫助用戶及時發現問題，有效預防潛在風險。
無損鎖相紅外熱成像系統用戶體驗系統的邏輯是通過 “周期性激勵 - 熱響應 - 鎖相提取 - 特征分析” 的流程，將內部結構差異轉化為熱圖像特征。

在半導體行業飛速發展的現在，芯片集成度不斷提升，器件結構日益復雜，失效分析的難度也隨之大幅增加。傳統檢測設備往往難以兼顧微觀觀測與微弱信號捕捉，導致許多隱性缺陷成為 “漏網之魚”。蘇州致晟光電科技有限公司憑借自主研發實力，將熱紅外顯微鏡與鎖相紅外熱成像系統創造性地集成一體，推出 Thermal EMMI P 熱紅外顯微鏡系列檢測設備（搭載自主研發的 RTTLIT （實時瞬態鎖相紅外系統），為半導體的失效分析提供了全新的技術范式。

鎖相熱成像系統的電激勵方式在電子產業的多層電路板檢測中優勢明顯，為多層電路板的生產質量控制提供了高效解決方案。多層電路板由多個導電層和絕緣層交替疊加而成，層間通過過孔實現電氣連接，結構復雜，在生產過程中容易出現層間短路、盲孔堵塞、絕緣層破損等缺陷。這些缺陷會導致電路板的電氣性能下降，甚至引發短路故障。電激勵能夠通過不同層的線路施加電流，使電流在各層之間流動，缺陷處會因電流分布異常而產生溫度變化。鎖相熱成像系統可以通過檢測層間的溫度變化，精細定位缺陷的位置和類型。例如，檢測層間短路時，系統會發現短路點處的溫度明顯高于周圍區域；檢測盲孔堵塞時，會發現對應位置的溫度分布異常。與傳統的 X 射線檢測相比，該系統的檢測速度更快，成本更低，而且能夠直觀地顯示缺陷的位置，助力多層電路板生產企業提高質量控制水平。紅外熱成像模塊功能是實時采集被測物體表面的紅外輻射信號，轉化為隨時間變化的溫度分布圖像序列。

光束誘導電阻變化（OBIRCH）功能與微光顯微鏡（EMMI）技術常被集成于同一檢測系統，合稱為光發射顯微鏡（PEM，PhotoEmissionMicroscope）。二者在原理與應用上形成巧妙互補，能夠協同應對集成電路中絕大多數失效模式，大幅提升失效分析的全面性與效率。OBIRCH技術的獨特優勢在于，即便失效點被金屬層覆蓋形成“熱點”，其仍能通過光束照射引發的電阻變化特性實現精細檢測——這恰好彌補了EMMI在金屬遮擋區域光信號捕捉受限的不足。鎖相熱成像系統提升電激勵檢測的抗干擾能力。制冷鎖相紅外熱成像系統選購指南

電激勵與鎖相熱成像系統，實現微缺陷檢測。芯片用鎖相紅外熱成像系統功能

鎖相熱成像系統憑借電激勵在電子產業的芯片封裝檢測中表現出的性能，成為芯片制造過程中不可或缺的質量控制手段。芯片封裝是保護芯片、實現電氣連接的關鍵環節，在封裝過程中，可能會出現焊球空洞、引線鍵合不良、封裝體開裂等多種缺陷。這些缺陷會嚴重影響芯片的散熱性能和電氣連接可靠性，導致芯片在工作過程中因過熱而失效。通過對芯片施加特定的電激勵，使芯片內部產生熱量，缺陷處由于熱傳導受阻，會形成局部高溫區域。鎖相熱成像系統能夠實時捕捉芯片表面的溫度場分布，并通過分析溫度場的相位和振幅變化，生成清晰的缺陷圖像，精確顯示出缺陷的位置、大小和形態。例如，在檢測 BGA 封裝芯片時，系統能準確識別出焊球中的空洞，即使空洞體積占焊球體積的 5%，也能被定位。這一技術的應用，幫助芯片制造企業及時發現封裝過程中的問題，有效降低了產品的不良率，提升了芯片產品的質量。芯片用鎖相紅外熱成像系統功能