RTTLIT E20 微光顯微分析系統(tǒng)（EMMI）是專為半導體器件漏電缺陷檢測量身打造的高精度檢測設備，其系統(tǒng)搭載 -80℃制冷型 InGaAs 探測器與高分辨率顯微物鏡 ，構建起超高靈敏度檢測體系 —— 可準確捕捉器件在微弱漏電流下產(chǎn)生的極微弱微光信號，實現(xiàn)納米級缺陷的可視化成像。通過超高靈敏度成像技術，設備能快速定位漏電缺陷并完成深度分析，為工程師提供直觀的缺陷數(shù)據(jù)支撐，助力優(yōu)化生產(chǎn)工藝、提升產(chǎn)品可靠性。從芯片研發(fā)到量產(chǎn)質控，RTTLIT E20 以穩(wěn)定可靠的性能，為半導體器件全生命周期的質量保障提供科學解決方案，是半導體行業(yè)提升良率的關鍵檢測利器。為提升微光顯微鏡探測力，我司多種光學物鏡可選，用戶可依樣品工藝與結構選裝，滿足不同微光探測需求。制冷微光顯微鏡成像儀

致晟光電將熱紅外顯微鏡（Thermal EMMI）與微光顯微鏡 (EMMI) 集成的設備，在維護成本控制上展現(xiàn)出優(yōu)勢。對于分開的兩臺設備，企業(yè)需配備專門人員分別學習兩套系統(tǒng)的維護知識，培訓內容涵蓋不同的機械結構、光學原理、軟件操作，還包括各自的故障診斷邏輯與校準流程，往往需要數(shù)月的系統(tǒng)培訓才能確保人員熟練操作，期間產(chǎn)生的培訓費用、時間成本居高不下。而使用一套集成設備只需一套維護體系，維護人員只需掌握一套系統(tǒng)的維護邏輯與操作規(guī)范，無需在兩套差異化的設備間切換學習，培訓周期可縮短近一半，大幅降低了培訓方面的人力與資金投入。
國內微光顯微鏡新款微光顯微鏡在 LED 故障分析中作用關鍵，可檢測漏電倒裝、短路倒裝及漏電垂直 LED 芯片的異常點。

選擇國產(chǎn) EMMI 微光顯微鏡，既是擁抱技術自主，更是搶占效率與成本的雙重優(yōu)勢！致晟光電全本土化研發(fā)實力，與南京理工大學光電技術學院深度攜手，致力于光電技術研究和產(chǎn)業(yè)化應用，充分發(fā)揮其科研優(yōu)勢，構建起產(chǎn)學研深度融合的技術研發(fā)體系。

憑借這一堅實后盾，我們的 EMMI 微光顯微鏡在性能上實現(xiàn)更佳突破：-80℃制冷型探測器搭配高分辨率物鏡，輕松捕捉極微弱漏電流光子信號，漏電缺陷定位精度與國際設備同步，讓每一個細微失效點無所遁形。

此外，可靠的產(chǎn)品質量是企業(yè)贏得客戶信任、鞏固市場份額的基礎。通過微光顯微鏡(EMMI)的嚴格檢測，企業(yè)能確保交付給客戶的芯片具備穩(wěn)定的性能和較高的可靠性，減少因產(chǎn)品故障導致的客戶投訴和返工或者退貨風險。這種對質量的堅守，會逐漸積累成企業(yè)的品牌口碑，使客戶在選擇供應商時更傾向于信賴具備完善檢測能力的企業(yè)，從而增強企業(yè)的市場競爭力。

微光顯微鏡不僅是一種檢測工具，更是半導體企業(yè)提升產(chǎn)品質量、加快研發(fā)進度、筑牢品牌根基的戰(zhàn)略資產(chǎn)。在全球半導體產(chǎn)業(yè)競爭日趨白熱化的當今，配備先進的微光顯微鏡設備，將幫助企業(yè)在技術創(chuàng)新與市場爭奪中持續(xù)領跑，構筑起難以復制的核心競爭力。 分析低阻抗短路時，微光顯微鏡可用于未開蓋樣品測試，還能定位大型 PCB 上金屬線路及元器件失效點。

光束誘導電阻變化（OBIRCH）功能與微光顯微鏡（EMMI）技術常被集成于同一檢測系統(tǒng)，合稱為光發(fā)射顯微鏡（PEM，PhotoEmissionMicroscope）。

二者在原理與應用上形成巧妙互補，能夠協(xié)同應對集成電路中絕大多數(shù)失效模式，大幅提升失效分析的全面性與效率。OBIRCH技術的獨特優(yōu)勢在于，即便失效點被金屬層覆蓋形成“熱點”，其仍能通過光束照射引發(fā)的電阻變化特性實現(xiàn)精細檢測——這恰好彌補了EMMI在金屬遮擋區(qū)域光信號捕捉受限的不足。

半導體失效分析中，微光顯微鏡可偵測失效器件光子，定位如 P-N 接面漏電等故障點，助力改進工藝、提升質量。國內微光顯微鏡新款

但歐姆接觸和部分金屬互聯(lián)短路時，產(chǎn)生的光子十分微弱，難以被微光顯微鏡偵測到，借助近紅外光進行檢測。。制冷微光顯微鏡成像儀

EMMI的本質只是一臺光譜范圍廣，光子靈敏度高的顯微鏡。

但是為什么EMMI能夠應用于IC的失效分析呢？

原因就在于集成電路在通電后會出現(xiàn)三種情況：1.載流子復合；2.熱載流子；3.絕緣層漏電。當這三種情況發(fā)生時集成電路上就會產(chǎn)生微弱的熒光，這時EMMI就能捕獲這些微弱熒光，這就給了EMMI一個應用的機會而在IC的失效分析中，我們給予失效點一個偏壓產(chǎn)生熒光，然后EMMI捕獲電流中產(chǎn)生的微弱熒光。原理上，不管IC是否存在缺陷，只要滿足其機理在EMMI下都能觀測到熒光 制冷微光顯微鏡成像儀