熱紅外顯微鏡（Thermal EMMI) 作為一種能夠捕捉微觀尺度熱輻射信號的精密儀器，其優(yōu)勢在于對材料、器件局部溫度分布的高空間分辨率觀測。

然而，在面對微弱熱信號（如納米尺度結(jié)構(gòu)的熱輻射、低功耗器件的散熱特性等）時，傳統(tǒng)熱成像方法易受環(huán)境噪聲、背景輻射的干擾，難以實現(xiàn)精細測量。鎖相熱成像技術(shù)的引入，為熱紅外顯微鏡突破這一局限提供了關(guān)鍵解決方案。通過鎖相熱成像技術(shù)的賦能，熱紅外顯微鏡從 “可見” 微觀熱分布升級為 “可測” 納米級熱特性，為微觀尺度熱科學(xué)研究與工業(yè)檢測提供了不可或缺的工具。 半導(dǎo)體芯片內(nèi)部缺陷定位是工藝優(yōu)化與失效分析的關(guān)鍵技術(shù)基礎(chǔ)。什么是熱紅外顯微鏡分析

致晟光電推出的多功能顯微系統(tǒng)，創(chuàng)新實現(xiàn)熱紅外與微光顯微鏡的集成設(shè)計，搭配靈活可選的制冷/非制冷模式，可根據(jù)您的實際需求定制專屬配置方案。這套設(shè)備的優(yōu)勢在于一體化集成能力：只需一套系統(tǒng)，即可同時搭載可見光顯微鏡、熱紅外顯微鏡及InGaAs微光顯微鏡三大功能模塊。這種設(shè)計省去了多設(shè)備切換的繁瑣，更通過硬件協(xié)同優(yōu)化提升了整體性能，讓您在同一平臺上輕松完成多波段觀測任務(wù)。相比單獨購置多套設(shè)備，該集成系統(tǒng)能大幅降低采購與維護成本，在保證檢測精度的同時，為實驗室節(jié)省空間與預(yù)算，真正實現(xiàn)性能與性價比的雙重提升。非制冷熱紅外顯微鏡原理熱紅外顯微鏡的高精度熱檢測，為電子設(shè)備可靠性提供保障 。

在失效分析的有損分析中，打開封裝是常見操作，通常有三種方法。全剝離法會將集成電路完全損壞，留下完整的芯片內(nèi)部電路。但這種方法會破壞內(nèi)部電路和引線，導(dǎo)致無法進行電動態(tài)分析，適用于需觀察內(nèi)部電路靜態(tài)結(jié)構(gòu)的場景。局部去除法通過特定手段去除部分封裝，優(yōu)點是開封過程不會損壞內(nèi)部電路和引線，開封后仍可進行電動態(tài)分析，能為失效分析提供更豐富的動態(tài)數(shù)據(jù)。自動法則是利用硫酸噴射實現(xiàn)局部去除，自動化操作可提高效率和精度，不過同樣屬于破壞性處理，會對樣品造成一定程度的損傷。

熱點區(qū)域?qū)?yīng)高溫部位，可能是發(fā)熱源或故障點；等溫線連接溫度相同點，能直觀呈現(xiàn)溫度梯度與熱量傳導(dǎo)規(guī)律。目前市面上多數(shù)設(shè)備受紅外波長及探測器性能限制，普遍存在熱點分散、噪點多的問題，導(dǎo)致發(fā)熱區(qū)域定位不準(zhǔn)，圖像對比度和清晰度下降，影響溫度分布判斷的準(zhǔn)確性。

而我方設(shè)備優(yōu)勢是設(shè)備抗干擾能力強，可有效減少外界環(huán)境及內(nèi)部器件噪聲影響，保障圖像穩(wěn)定可靠；等溫線明顯，能清晰展現(xiàn)溫度相同區(qū)域，便于快速掌握溫度梯度與熱傳導(dǎo)情況，提升熱特性分析精度；成像效果大幅提升，具備更高的空間分辨率、溫度分辨率及對比度，可清晰呈現(xiàn)細微細節(jié)，為分析提供高質(zhì)量的圖像支持。 熱紅外顯微技術(shù)可透過硅片或封裝材料，實現(xiàn)非接觸式熱斑定位。

致晟光電熱紅外顯微鏡的軟件算法優(yōu)化，信號處理邏輯也是其競爭力之一。

其搭載的自適應(yīng)降噪算法，能通過多幀信號累積與特征學(xué)習(xí)，精細識別背景噪聲的頻譜特征 —— 無論是環(huán)境溫度波動產(chǎn)生的低頻干擾，還是電子元件的隨機噪聲，都能被針對性濾除，使信噪比提升 2-3 個數(shù)量級。

針對微弱熱信號提取，算法內(nèi)置動態(tài)閾值調(diào)節(jié)機制，結(jié)合熱信號的時域相關(guān)性與空間分布特征，可從噪聲中剝離 0.05mK 級的微小溫度變化，即使納米尺度結(jié)構(gòu)的隱性感熱信號也能被清晰捕捉。同時，軟件支持熱分布三維建模、溫度梯度曲線分析、多區(qū)域熱演化對比等多元功能，通過直觀的可視化界面呈現(xiàn)數(shù)據(jù) —— 從熱點定位的微米級標(biāo)記到熱傳導(dǎo)路徑的動態(tài)模擬，為用戶提供從信號提取到深度分析的全流程支持，大幅提升微觀熱分析效率。 熱紅外顯微鏡支持芯片、電路板等多類電子元件熱檢測。半導(dǎo)體失效分析熱紅外顯微鏡貨源充足

熱紅外顯微鏡憑借高靈敏度探測器，實現(xiàn)芯片微米級紅外熱分布觀察，鎖定異常熱點 。什么是熱紅外顯微鏡分析

非破壞性分析（NDA）以非侵入方式分析樣品內(nèi)部結(jié)構(gòu)和性能，無需切割、拆解或化學(xué)處理，能保留樣品完整性，為后續(xù)研究留有余地，在高精度、高成本的半導(dǎo)體領(lǐng)域作用突出。

無損分析，通過捕捉樣品自身紅外熱輻射成像，全程無接觸，無需對晶圓、芯片等進行破壞性處理。在半導(dǎo)體制造中，可識別晶圓晶體缺陷；封裝階段，能檢測焊接點完整性或封裝層粘結(jié)質(zhì)量；失效分析時，可定位內(nèi)部短路或斷裂區(qū)域的隱性熱信號，為根源分析提供依據(jù)，完美適配半導(dǎo)體行業(yè)對高價值樣品的保護需求。 什么是熱紅外顯微鏡分析