微泰轉移閥是安裝在半導體PVDCVD設備工藝模塊和工藝室之間的閥門系統。它充當將位于工藝模塊中的晶圓轉移到工藝室的溝槽。此外，它極大限度地減少了由于閘板打開和關閉造成的真空壓力變化，使腔室內的真空壓力得以維持。負責門控半導體晶圓轉移的轉移閥分為兩種類型:I型和L型。一、I型轉移閥。I型轉移閥產品由鋁或不銹鋼制成，用于傳輸晶圓小于450毫米的半導體系統和隔離工藝室。本型的特點是葉片在垂直方向上快速移動，確保完美的腔室壓力維持。它采用具有LM導向系統和單連桿的內部機構，保證高耐用性和長壽命。二、L型轉移閥。L型轉移閥產品由鋁或不銹鋼制造，其特點是設計緊湊，易于維護。L型轉移閥的特點是閘門在兩個階段從垂直到水平方向移動，確保完美的腔室壓力維護。它的內部機構，包括一個LM導向系統和滯留彈簧和楔形營地結構，保證了高耐用性和長壽命，同時提供穩定和精確的運動。I型和L型轉移閥在在閘門開啟和關閉過程中極大限度地減少了振動，并且對溫度變化非常穩定，確保了較長的使用壽命。此外，即使長時間使用柵極，它們產生的顆粒也很少，從而避免了晶圓缺陷或主器件的污染。微泰不斷創新，在開發先進的壓力控制和控制閥制造專業從事真空閘閥不懈努力。高壓閘閥，屬于強制密封式閥門，所以在閥門關閉時，必須向閘板施加壓力，以強制密封面不泄漏。超真空閘閥法蘭閘閥

微泰，加熱閘閥應用于? Evaporation（蒸發）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）? Coating? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴散）?CVD（化學氣相沉積）等設備上。可替代VAT閘閥。其特點是*使用加熱套或內部加熱器加熱*加熱控制器*應用:去除粉末/氣體設備。加熱閘閥規格如下：驅動方式：手動或氣動、法蘭尺寸：1.5英寸~ 12英寸、法蘭類型：ISO、JIS、ASA、CF、連接方式：焊接波紋管、閥門密封：氟橡膠O型圈/Kalrez O型環/EPDM、閥蓋密封：氟橡膠O型圈、響應時間：≤ 2 sec、操作壓力范圍：1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar，8? ~ 12? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar 、開始時的壓差：≤ 30 mbar、閘門的差動壓力：1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 12 ≤ 1200 mbar、泄漏率：< 1×10 -10 Mbar/秒、維護前可用次數：200,000次、閥體溫度≤ 200 °、機構溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 200 °C、材料：閥體(不銹鋼304)/驅動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置：任意、操作壓力(N2)：4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績。晶圓閘閥插板閥金屬材料高壓閘閥主要有：碳鋼閥門、合金鋼閥門、不銹鋼閥門、鑄鐵閥門、鈦合金閥門、銅合金閥門等。

微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥，鋁閘閥（AL Gate Valve）-產品范圍：1.5英寸~10英寸-12英寸可生產的產品尺寸，閥體材料：鋁、氣動、緊湊設計、重量輕。閘門，閥蓋密封：Viton O-Ring使用次數：100000次，易于維護，低顆粒（陶瓷球機構）。- Body Material : Aluminum  - Pneumatic - Compact Design- Light of weight - Gate, Bonnet Seal : Viton O-Ring - Cycles until first service : 100,000 - Easy Maintenance - Low Particle (Ceramic Ball Mechanism)，微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績，可替代HVA閘閥、VAT閘閥。

微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥蝶閥Butterfly Valve。該蝶閥具有緊湊的設計和堅固的不銹鋼結構，通過閘板旋轉操作。蝶閥可以實現精確的壓力控制和低真空環境。例如半導體和工業過程。蝶閥通過控制器和步進電機自動控制到用戶指定的值，保持一致的真空壓力。可以在高真空環境中實現精確的壓力控制。如半導體等高真空工藝應用。控制系統閘閥是自動控制到用戶指定的值，通過控制器和步進電機保持一致的真空壓力。微泰半導體閘閥被廣泛應用于 Evaporation（蒸發）、Sputtering（濺射）、Diamond growth by MW-PACVD（通過 MW-PACVD 生長金剛石）、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）、Coating（涂層）、Etch（蝕刻）、Diffusion（擴散）、CVD（化學氣相沉積）等設備上，可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績。該閘閥由上海安宇泰環保科技有限公司提供。非金屬材料高壓閘閥有陶瓷閥門、玻璃閥門、塑料閥門。

微泰，鋁閘閥應用于? Evaporation（蒸發）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴散）?CVD（化學氣相沉積）等設備上。期特點是*不論什么工藝的設備都可以使用*由半永久性陶瓷球和彈簧組成*應用:隔離泵。鋁閘閥規格如下：驅動方式：手動、法蘭尺寸：1.5英寸~ 10英寸、閥體：AL6061 (Anodizing)、機械裝置：AL6061 (Anodizing)、閥門：O型圈(VITON)、真空密封：O型圈(VITON)、響應時間≤ 3 sec、驅動器：氣缸、操作泄漏率< 1×10-10 mbar ?/sec、壓力范圍：< 1×10-10 mbar ?/sec、開始時的壓差：≤ 30 mbar、初次維護前可用次數100,000次、閥體溫度≤ 120 °執行機構溫度≤ 60 °C、安裝位置：任意、操作壓力(N2)：4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績。可替代VAT閥門。控制系統閘閥。控制系統閘閥具有可隔離的閘閥，以滑動方式操作，可以在高真空環境中實現精確的壓力控制。多位閘閥蝶閥

閘閥啟閉時較省力。是與截止閥相比而言，因為無論是開或閉，閘板運動方向均與介質流動方向相垂直。超真空閘閥法蘭閘閥

微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥，插板閥，氣動（鎖定）閘閥和手動（鎖定）閘閥-按產品尺寸和法蘭類型排列-ID為1.5英寸至30英寸，ISO、CF&JIS和ASA法蘭等-現有手動閘閥的鎖定功能（Exist Manual GV of Locking Function）。微泰氣動（鎖定）閘閥和手動（鎖定）閘閥應用于? Evaporation（蒸發）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴散）?CVD（化學氣相沉積）等設備上。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績。超真空閘閥法蘭閘閥