常州市志達不銹鋼模板有限公司2025-06-13

側(cè)蝕成因：蝕刻液沿抗蝕層邊緣橫向擴散，導致紋理邊緣變寬（側(cè)蝕率 = 側(cè)蝕寬度 / 蝕刻深度）。 控制技術(shù)： 抗蝕層優(yōu)化： 使用干膜光刻膠（厚度 30-50μm），曝光顯影后邊緣垂直度≥85°； 預涂阻蝕劑（如石蠟）于非蝕刻區(qū)域，減少側(cè)向腐蝕。 工藝參數(shù)： 降低蝕刻液濃度（如 FeCl?從 40% 降至 30%），延長蝕刻時間； 采用噴淋式蝕刻（壓力 0.5-1MPa），增強液體流動性，減少停滯區(qū)。 后處理補償： 蝕刻后用細砂紙（P1000）手工修邊，或通過激光精修去除側(cè)蝕殘留。

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