維度光電推出的 BeamHere 光斑分析儀系列，整合掃描狹縫式、相機式及 M2 測試模塊三大產(chǎn)品線，為激光光束質量檢測提供全場景解決方案。 掃描狹縫式光斑分析儀刀口 / 狹縫雙模式切換技術，覆蓋 190-2700nm 寬光譜，支持 2.5μm-10mm 光束直徑測量。0.1μm 超高分辨率可捕捉亞微米級光斑細節(jié)，無需外置衰減片即可直接測量近 10W 高功率激光，適用于激光加工、醫(yī)療設備等高能量場景。 相機式光斑分析儀覆蓋 400-1700nm 波段，支持 2D/3D 實時成像與動態(tài)分析，可測量非高斯光束（如平頂、貝塞爾光束）。獨特的六濾光片轉輪設計實現(xiàn)功率范圍擴展，可拆卸結構支持科研成像功能拓展。 M2 測試模塊適配全系產(chǎn)品，通過 ISO 11146 標準算法測量光束傳播參數(shù)（M2 因子、發(fā)散角、束腰位置等），結合 BeamHere 軟件實現(xiàn)一鍵生成報告、多參數(shù)同步分析。系統(tǒng)以模塊化設計滿足光通信、醫(yī)療、工業(yè)等領域的光斑檢測需求，兼顧實驗室與產(chǎn)線在線監(jiān)測場景。國產(chǎn)光斑分析儀哪個好？維度光電光斑分析儀全系列。多光斑光斑分析儀原理

全系列產(chǎn)品矩陣與智能分析系統(tǒng) Dimension-Labs BeamHere 系列產(chǎn)品通過全光譜覆蓋與模塊化設計，構建起完整的光束質量測量生態(tài)系統(tǒng)： 1. 全場景產(chǎn)品體系 光譜覆蓋：190-2700nm 超寬響應范圍，滿足紫外到遠紅外波段的測試需求 技術方案： 掃描狹縫式：支持 2.5μm-10mm 光斑檢測，0.1μm 超高分辨率，可測近 10W 高功率激光，適合半導體加工、高功率焊接等場景 相機式：400-1700nm 實時成像，5.5μm 像元精度，標配 6 片濾光片轉輪實現(xiàn) 1μW-1W 寬功率測量，擅長復雜光斑分析與脈沖激光檢測 結構創(chuàng)新：掃描狹縫式采用 ±90° 轉筒調節(jié)與可調光闌設計，相機式支持濾光片轉輪與相機分離，拓展科研成像功能 2. M2 因子測試模塊 兼容全系產(chǎn)品，基于 ISO 11146 標準算法實現(xiàn)光束質量參數(shù)測量 可獲取： 光束發(fā)散角（mrad） 束腰位置（mm） M2 因子（無量綱） 瑞利長度（mm） 支持光束傳播方向上的全鏈路分析，為激光系統(tǒng)設計提供數(shù)據(jù)激光光斑分析儀光斑分析儀應該怎么選？

Dimension-Labs 推出 Beamhere 系列光斑分析儀，通過配套通用軟件構建完整光束質量評估體系。該系統(tǒng)集成光斑能量分布測繪、發(fā)散角測量及 M2 因子計算三大功能，可有效分析光束整形、聚焦及準直效果。所有參數(shù)均符合 ISO11146 標準，包括光斑寬度、質心偏移量和橢圓率等指標。用戶可選配 M2 測試模塊，實現(xiàn)光束傳播方向上的束腰定位、發(fā)散角測量及 M2 因子計算，終通過軟件一鍵生成標準化測試報告。BeamHere把對于激光光束的評價進?量化，并由軟件?鍵輸出測試報告，精確且?效的完成光束分析。

Dimension-Labs 掃描狹縫式光斑分析儀系列采用國內的刀口 / 狹縫雙模式切換技術，覆蓋 190-2700nm 寬光譜，可測 2.5μm-10mm 光束直徑，0.1μm 超高分辨率突破傳統(tǒng)檢測極限。其創(chuàng)新設計實現(xiàn)三大優(yōu)勢： 雙模式自適應檢測 通過軟件切換刀口 / 狹縫模式，分析 < 20μm 極小光斑形態(tài)或 10mm 大光斑能量分布，全量程無盲區(qū)。 高功率直接測量 狹縫物理衰減機制允許單次通過狹縫區(qū)域光，無需外置衰減片即可安全測量近 10W 高功率激光。 超分辨率成像 基于狹縫掃描原理實現(xiàn) 0.1μm 分辨率，完整捕捉亞微米級光斑細節(jié)，避免能量分布特征丟失。 設備內置正交狹縫轉動輪，通過旋轉掃描同步采集 XY 軸功率數(shù)據(jù)，經(jīng)算法處理輸出光束直徑、橢圓率等 20 + 參數(shù)。緊湊模塊化設計適配多場景安裝，通過 CE/FCC 認證，適用于激光加工、醫(yī)療設備及科研領域，助力客戶提升光束質量檢測精度與效率。用于千瓦光斑測量的大功率配件。

Dimension-Labs 推出的相機式光斑分析儀系列包含兩個型號，覆蓋 400-1700nm 寬光譜范圍，實現(xiàn)可見光與近紅外波段光斑的實時顯示與分析。其優(yōu)勢如下： 寬光譜覆蓋與動態(tài)分析 單臺設備即可滿足 400-1700nm 全波段測量需求，支持 2D 光斑實時成像與 3D 功率分布動態(tài)分析。高幀率連續(xù)測量模式下，可實時捕捉光斑變化并生成任意視角的 3D 視圖，為光學系統(tǒng)調試、動態(tài)測試及時間監(jiān)控提供直觀數(shù)據(jù)支持。 復雜光斑適應性 基于面陣傳感器的成像原理，可測量非高斯分布光束（如平頂、貝塞爾光束）及含高階橫模的復雜光斑，突破傳統(tǒng)掃描式設備的局限性。 功率調節(jié)系統(tǒng) 標配 6 片不同衰減率的濾光片，通過獨特的轉輪結構實現(xiàn)功率范圍擴展，可測功率提升 100 倍。一鍵切換濾光片設計簡化操作流程，兼顧寬量程與高精度需求。 科研級功能拓展 采用模塊化可拆卸設計，光斑分析相機與濾光片轉輪可分離使用。拆卸后的相機兼容通用驅動軟件，支持科研成像、光譜分析等擴展應用，實現(xiàn)工業(yè)檢測與實驗室的一機多用。發(fā)散較大，怎么測量光束質量？光束質量光斑分析儀怎么樣

M2因子測量模塊，兼顧光斑與光束質量一站式測試。多光斑光斑分析儀原理

Dimension-Labs 掃描狹縫式光斑分析儀系列以國內的刀口 / 狹縫雙模式切換技術為，覆蓋 190-2700nm 全光譜，可測 2.5μm 至 10mm 光束直徑。其 0.1μm 超高分辨率突破傳統(tǒng)設備極限，捕捉亞微米級光斑細節(jié)。 技術優(yōu)勢： 雙模式智能適配：軟件自主切換刀口 / 狹縫模式，解決 < 20μm 極小光斑與 10mm 大光斑的測量難題 高功率安全檢測：創(chuàng)新狹縫物理衰減機制，無需外置衰減片即可直接測量近 10W 激光 超分辨率成像：基于狹縫掃描原理，完整還原光斑能量分布，避免特征丟失 設備內置正交狹縫轉動輪，通過旋轉掃描同步采集 XY 軸數(shù)據(jù)，經(jīng)算法處理輸出 20 + 光束參數(shù)。緊湊模塊化設計適配工業(yè)與實驗室場景，通過 CE/FCC 認證，在 - 40℃至 85℃環(huán)境穩(wěn)定工作，應用于激光加工、醫(yī)療設備及科研領域，助力客戶提升檢測精度與效率。多光斑光斑分析儀原理

維度光電：一站式光電服務平臺Dimension-labs隸屬深圳市維度科技有限公司，以助推突破技術壁壘、打破國外壟斷、加速國產(chǎn)化替代為使命，以構建、培育網(wǎng)狀光電生態(tài)鏈,促進產(chǎn)業(yè)鏈優(yōu)化升級，提升科研效率，降低企業(yè)創(chuàng)新及研發(fā)成本為愿景建立一站式光電產(chǎn)品服務平臺(Dimension-Labs)，將互聯(lián)網(wǎng)電子商務與光電行業(yè)深度融合，形成創(chuàng)新型數(shù)字化產(chǎn)業(yè)生態(tài)鏈，為全球的高校、科研、企業(yè)及創(chuàng)客團體提供：

1、質量的一站式光電產(chǎn)品現(xiàn)貨、極速供應服務，產(chǎn)品涵蓋光機械、光學元件、光電檢測儀器、激光光源、光學成像鏡頭、科研相機、光束分析等;“燈塔”光電開放研究實驗室及光電數(shù)據(jù)庫，

2、提供技術攻關、技術開發(fā)、儀器共享、科技資源共享、科研交流、檢驗檢測、系統(tǒng)搭建等深度技術服務;

3、立足服務平臺，連接線上線下、銜接供需兩端、對接國內國外市場，賦能經(jīng)濟社會數(shù)字化轉型和后時代社會建設；

4、助力提高科研效率，降低企業(yè)創(chuàng)新研發(fā)成本，助推突破技術壁壘，加速國產(chǎn)化替代，培育并構建數(shù)字化、智能化網(wǎng)狀光電產(chǎn)業(yè)生態(tài)鏈。