《光刻膠巨頭巡禮：全球市場格局與主要玩家》**內容： 概述全球光刻膠市場（高度集中、技術壁壘高），介紹主要供應商（如東京應化TOK、JSR、信越化學、杜邦、默克）。擴展點： 各公司的優勢領域（如TOK在KrF/ArF**，JSR在EUV**）、國產化現狀與挑戰。《國產光刻膠的崛起：機遇、挑戰與突破之路》**內容： 分析中國光刻膠產業現狀（在G/I線相對成熟，KrF/ArF逐步突破，EUV差距大）。擴展點： 面臨的“卡脖子”困境（原材料、配方、工藝、驗證周期）、政策支持、國內主要廠商進展、未來展望。化學放大光刻膠（CAR）采用光酸催化劑，可顯著提高深紫外（DUV）曝光效率。廣東油性光刻膠品牌

《顯影：光刻膠圖形的**終“定影”時刻》**內容： 說明顯影過程如何選擇性地溶解曝光（正膠）或未曝光（負膠）區域，形成物理圖形。擴展點： 常用顯影液（堿性水溶液如TMAH）、顯影方式（噴淋、浸沒）、參數控制（時間、溫度）對圖形質量（側壁形貌、CD控制）的影響。《光刻膠中的精密“調料”：添加劑的作用》**內容： 介紹光刻膠配方中除樹脂、光敏劑（PAG）、溶劑外的關鍵添加劑。擴展點： 堿溶性抑制劑的作用機制、表面活性劑（改善潤濕性、減少缺陷）、淬滅劑（控制酸擴散、改善LER）、穩定劑等。遼寧油性光刻膠感光膠全球光刻膠市場由日美企業主導，包括東京應化（TOK）、JSR、信越化學、杜邦等。

全球光刻膠市場格局與主要玩家市場整體規模與增長驅動力（半導體、顯示面板、PCB）。按技術細分市場（ArFi, KrF, g/i-line, EUV, 其他）。**巨頭分析：日本：東京應化、信越化學、住友化學、JSR美國：杜邦韓國：東進世美肯各公司在不同技術領域的優勢產品。市場競爭態勢與進入壁壘（技術、**、客戶認證）。中國本土光刻膠產業發展現狀、挑戰與機遇。光刻膠研發的前沿趨勢針對High-NA EUV： 更高分辨率、更低隨機缺陷的光刻膠（金屬氧化物、新型分子玻璃）。減少隨機效應： 新型PAG設計（高效、低擴散）、多光子吸收材料、預圖形化技術。直寫光刻膠： 適應電子束、激光直寫等技術的特殊膠。定向自組裝材料： 與光刻膠結合的混合圖案化技術。計算輔助材料設計： 利用AI/ML加速新材料發現與優化。可持續性： 開發更環保的溶劑、減少有害物質使用。

干膜光刻膠：原理、特點與應用領域什么是干膜光刻膠？與液態膠的本質區別。結構組成：聚酯基膜 + 光敏樹脂層 + 聚乙烯保護膜。工作原理：貼膜、曝光、顯影。**優勢：工藝簡化（無需涂布/前烘），提高效率。無溶劑揮發，更環保安全。優異的厚度均勻性、低缺陷。良好的機械強度和抗化學性。局限性： 分辨率通常低于液態膠，成本較高。主要應用領域：PCB制造（內層、外層線路、阻焊）。半導體封裝（凸塊、RDL）。引線框架。精密機械加工掩模。光刻膠去除技術概覽去膠的必要性（避免污染后續工藝）。濕法去膠：有機溶劑（**、NMP）去除有機膠。強氧化劑（硫酸/雙氧水 - Piranha， 臭氧水）去除難溶膠/殘渣。**去膠液（含胺類化合物）。優缺點（成本低、可能損傷材料/產生廢液）。干法去膠（灰化）：氧氣等離子體灰化：**常用方法，將有機物氧化成氣體。反應離子刻蝕：結合物理轟擊。優缺點（清潔度高、對下層損傷小、處理金屬膠難）。特殊去膠：激光燒蝕。超臨界流體清洗。去除EUV膠和金屬氧化物膠的新挑戰與方法。選擇去膠方法需考慮的因素（光刻膠類型、下層材料、殘留物性質）。KrF/ArF光刻膠是當前半導體制造的主流材料，占市場份額超60%。

光刻膠原材料：樹脂、PAG、溶劑與添加劑樹脂： 主要成分，決定基本機械化學性能。不同類型膠的樹脂特點（酚醛樹脂-i-line， 丙烯酸/環烯烴共聚物-ArF， 特殊聚合物-EUV）。光敏劑/光酸產生劑： 吸收光能并引發反應的**。不同類型PAG的結構、效率、擴散特性比較。溶劑： 溶解樹脂等組分形成液態膠。常用溶劑（PGMEA， PGME, EL, CyHO等）及其選擇依據（溶解力、揮發性、安全性）。添加劑：淬滅劑： 控制酸擴散，改善LER/LWR。表面活性劑： 改善涂布均勻性、減少缺陷。染料： 控制光吸收/反射。穩定劑： 提高儲存壽命。原材料純度對光刻膠性能的極端重要性。光刻膠的研發需要兼顧材料純度、粘附性和曝光后的化學穩定性。天津高溫光刻膠國產廠商

顯影環節使用堿性溶液（如TMAH）溶解曝光后的光刻膠，形成目標圖形。廣東油性光刻膠品牌

《光刻膠在MicroLED巨量轉移中的**性應用》技術痛點MicroLED芯片尺寸<10μm，傳統Pick&Place轉移良率<99.9%，光刻膠圖形化鍵合方案可突破瓶頸。**工藝臨時鍵合膠：聚酰亞胺基熱釋放膠（耐溫>250°C），厚度均一性±0.1μm。激光解離（355nm）后殘留物<5nm。選擇性吸附膠：微井陣列（井深=芯片高度120%）光刻成型，孔徑誤差<0.2μm。表面能梯度設計（井底親水/井壁疏水），吸附精度99.995%。量產優勢轉移速度達100萬顆/小時（傳統方法*5萬顆）。適用于曲面顯示器（汽車AR-HUD）。廣東油性光刻膠品牌