吉田半導體突破光刻膠共性難題，提升行業生產效率，通過優化材料配方與工藝，吉田半導體解決光刻膠留膜率低、蝕刻損傷等共性問題，助力客戶降本增效。
針對傳統光刻膠留膜率低、蝕刻損傷嚴重等問題，吉田半導體研發的 T150A KrF 光刻膠留膜率較同類產品高 8%，密集圖形側壁垂直度達標率提升 15%。其納米壓印光刻膠采用特殊交聯技術，在顯影過程中減少有機溶劑對有機半導體的損傷，使芯片良率提升至 99.8%。這些技術突破有效降低客戶生產成本，推動行業生產效率提升。耐高溫光刻膠 JT-2000，250℃環境穩定運行，圖形保真度超 95%，用于納米結構制造！河北阻焊油墨光刻膠廠家

吉田半導體水性感光膠 JT-1200：水油兼容，鋼片加工精度 ±5μm

正性光刻膠

• 半導體分立器件制造：對于二極管、三極管等半導體分立器件，正性光刻膠可實現精細的圖形化加工，滿足不同功能需求。比如在制作高精度的小尺寸分立器件時，正性光刻膠憑借其高分辨率和良好對比度，能精確刻畫器件的結構，提高器件性能。
• 微機電系統（MEMS）制造：MEMS 器件如加速度計、陀螺儀等，結構復雜且尺寸微小。正性光刻膠用于 MEMS 制造過程中的光刻步驟，可在硅片等材料上制作出高精度的微結構，確保 MEMS 器件的功能實現。

水性感光膠推薦吉田 JT-1200，精細網點+易操作性!

光刻膠的儲存條件嚴苛，需在低溫、避光環境下保存以維持穩定性。河北阻焊油墨光刻膠廠家