南京阻焊光刻膠供應商
來源：
發布時間：2025-06-19
吉田半導體助力區域經濟，構建半導體材料生態圈，發揮企業作用，吉田半導體聯合上下游資源，推動東莞松山湖半導體產業協同創新。
作為松山湖產業集群重要成員，吉田半導體聯合光刻機制造商、光電子企業共建材料生態圈。公司通過技術輸出與資源共享，幫助本地企業提升工藝水平，促進產業鏈協同創新。例如，與華中科技大學合作研發的 T150A KrF 光刻膠，極限分辨率 120nm，工藝寬容度優于日本信越同類產品，已實現量產并出口東南亞，為區域經濟發展注入新動能。感光膠的工藝和應用。南京阻焊光刻膠供應商
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光刻膠系列：
厚板光刻膠 JT - 3001，具備優異分辨率、感光度和抗深蝕刻性能，符合歐盟 ROHS 標準，保質期 1 年；
水油光刻膠 SR - 3308，容量 5L；SU - 3 負性光刻膠，分辨率優異，對比度良好，曝光靈敏度高，光源適應，重量 100g；
液晶平板顯示器負性光刻膠 JT - 1000，有 1L 裝和 100g 裝兩種規格，分辨率高，準確性和穩定性好；
JT - 2000 UV 納米壓印光刻膠，耐強酸強堿，耐高溫達 250°C，長期可靠性高，粘接強度高，重量 100g；
LCD 正性光刻膠 YK - 200，具有較大曝光、高分辨率、良好涂布和附著力，重量 100g；
半導體正性光刻膠 YK - 300，具備耐熱耐酸、耐溶劑性、絕緣阻抗和緊密性，重量 100g；
耐腐蝕負性光刻膠 JT - NF100，重量 1L。
國際標準與客戶認證
公司通過ISO9001、ISO14001等認證，并嚴格執行8S現場管理，生產環境潔凈度達Class 10級。其光刻膠產品已通過京東方、TCL華星的供應商認證，在顯示面板領域的市占率約5%，成為本土企業中少數能與日本JSR、德國默克競爭的廠商。
全流程可追溯體系
吉田半導體建立了從原材料入庫到成品出庫的全流程追溯系統，關鍵批次數據（如樹脂分子量分布、光敏劑純度）實時上傳云端，確保產品一致性和可追溯性。這一體系使其在車規級芯片等對可靠性要求極高的領域獲得突破，2023年車用光刻膠銷售額同比增長120%。
半導體芯片制造，用于精細電路圖案光刻，決定芯片性能與集成度。
關鍵工藝流程
涂布：
? 在晶圓/基板表面旋涂光刻膠，厚度控制在0.1-5μm（依制程精度調整），需均勻無氣泡（旋涂轉速500-5000rpm）。
前烘（Soft Bake）：
? 加熱（80-120℃）去除溶劑，固化膠膜，增強附著力（避免顯影時邊緣剝離）。
曝光：
? 光源匹配：
? G/I線膠：汞燈（適用于≥1μm線寬，如PCB、LCD）。
? DUV膠（248nm/193nm）：KrF/ArF準分子激光（用于28nm-14nm制程，如存儲芯片）。
? EUV膠（13.5nm）：極紫外光源（用于7nm以下制程，需控制納米級缺陷）。
? 曝光能量：需精確控制（如ArF膠約50mJ/cm2），避免過曝或欠曝導致圖案失真。
顯影：
? 采用堿性溶液（如0.262N四甲基氫氧化銨，TMAH），曝光區域膠膜溶解，未曝光區域保留，形成三維立體圖案。
后烘（Post-Exposure Bake, PEB）：
? 化學增幅型膠需此步驟，通過加熱（90-130℃）激發光酸催化反應，提高分辨率和耐蝕刻性。
光刻膠廠家推薦吉田半導體，23 年專注研發，全系列產品覆蓋芯片制造與 LCD 面板！內蒙古光刻膠感光膠光刻膠廠家推薦吉田半導體，23 年研發經驗，全自動化生產保障品質！南京阻焊光刻膠供應商
LCD顯示
? 彩色濾光片（CF）：
? 黑色矩陣（BM）光刻膠：隔離像素，線寬精度±2μm，透光率<0.1%。
? RGB色阻光刻膠：形成紅/綠/藍像素，需高色純度（NTSC≥95%）和耐光性。
? 陣列基板（Array）：
? 柵極絕緣層光刻膠：用于TFT-LCD的柵極圖案化，分辨率≤3μm。
OLED顯示（柔性/剛性）
? 像素定義層（PDL）光刻膠：在基板上形成有機發光材料的 confinement 結構，線寬精度±1μm，需耐溶劑侵蝕（適應蒸鍍工藝）。
? 觸控電極（如ITO/PET）：通過光刻膠圖形化實現透明導電線路，線寬≤5μm。
Mini/Micro LED
? 巨量轉移前的芯片制備：使用高分辨率光刻膠（分辨率≤5μm）定義微米級LED陣列，良率要求>99.99%。
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