某人工智能芯片公司利用 Polos 光刻機開發了基于阻變存儲器(RRAM)的存算一體架構。其激光直寫技術在 10nm 厚度的 HfO?介質層上實現了 5nm 的電極邊緣控制,器件的電導均勻性提升至 95%,計算能效比達 10TOPS/W,較傳統 GPU 提升兩個數量級。基于該技術的邊緣 AI 芯片,在圖像識別任務中能耗降低 80%,推理速度提升 3 倍,已應用于智能攝像頭和無人機避障系統,相關芯片出貨量突破百萬片。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫療公司提供了利用其功能的機會。多材料兼容:金屬 / 聚合物 / 陶瓷同步加工,微流控芯片集成傳感器一步成型。湖北德國POLOS桌面無掩模光刻機讓你隨意進行納米圖案化
在航空航天科研中,某科研團隊致力于研發用于環境監測和偵察的微型飛行器。其中,制造輕量化且高性能的微機械部件是關鍵。德國 Polos 光刻機憑借無掩模激光光刻技術,助力團隊制造出尺寸precise、質量輕盈的微型齒輪、機翼骨架等微機械結構。例如,利用該光刻機制造的微型齒輪,齒距精度達到納米級別,極大提高了飛行器動力傳輸系統的效率和穩定性。基于此,科研團隊成功試飛了一款新型微型飛行器,其續航時間和飛行靈活性遠超同類產品,為未來微型飛行器在復雜環境下的應用奠定了堅實基礎。四川PSP光刻機基材厚度可達到0.1毫米至8毫米客戶認可:全球 500 + 客戶滿意度達 98%,復購率 75%,技術支持響應時間 < 2 小時。
對于納 / 微機械系統的研究與制造,德國 Polos 光刻機系列展現出強大實力。無掩模激光光刻技術賦予它高度的靈活性,科研人員能夠快速將創新設計轉化為實際器件。在制造微型齒輪、納米級懸臂梁等微機械結構時,Polos 光刻機可precise控制激光,確保每個部件的尺寸和形狀都符合設計要求。? 借助該光刻機,科研團隊成功研發出新型微機械傳感器,其靈敏度和響應速度遠超傳統產品。并且,由于系統占用空間小,即使是小型實驗室也能輕松引入。Polos 光刻機以其低成本、高效率的特性,成為納 / 微機械系統領域的制造先鋒,助力科研人員不斷探索微納世界的奧秘。
細胞培養芯片需根據不同細胞類型設計表面微結構,傳統光刻依賴掩模庫,難以滿足個性化需求。Polos 光刻機支持 STL 模型直接導入,某干細胞研究所在 24 小時內完成了神經干細胞三維培養支架的定制加工。其制造的微柱陣列間距可精確控制在 5-50μm,適配不同分化階段的細胞黏附需求。實驗顯示,使用該支架的神經細胞軸突生長速度提升 30%,為神經再生機制研究提供了高效工具,相關技術已授權給生物芯片企業實現量產。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫療公司提供了利用其功能的機會。空間友好設計:占地面積小于 1.2㎡,小型實驗室也能部署高精度光刻系統。
在微流控芯片集成領域,某微機電系統實驗室利用 Polos 光刻機的多材料同步曝光技術,在同一塊 PDMS 芯片上直接制備出金屬電極驅動的氣動泵閥結構。其微泵通道寬度可控制在 20μm,流量調節精度達 ±1%,響應時間小于 50ms。通過軟件輸入不同圖案,可在 10 分鐘內完成從連續流到脈沖流的模式切換。該芯片被用于單細胞代謝分析,實現了單個tumor細胞葡萄糖攝取率的實時監測,檢測靈敏度較傳統方法提升 3 倍,相關設備已進入臨床前驗證階段。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫療公司提供了利用其功能的機會。無掩模技術優勢:摒棄傳統掩模,圖案設計實時調整,研發成本直降 70%。德國POLOS光刻機不需要緩慢且昂貴的光掩模
電子學應用:2μm 線寬光刻能力,第三代半導體器件研發效率提升 3 倍。湖北德國POLOS桌面無掩模光刻機讓你隨意進行納米圖案化
某生物力學實驗室通過 Polos 光刻機,在單一芯片上集成了壓阻式和電容式細胞力傳感器。其多材料曝光技術在 20μm 的懸臂梁上同時制備金屬電極與硅基壓阻元件,傳感器的力分辨率達 5pN,位移檢測精度達 1nm。在心肌細胞收縮力檢測中,該集成傳感器實現了力 - 電信號的同步采集,發現收縮力峰值與動作電位時程的相關性達 0.92,為心臟電機械耦合機制研究提供了全新工具,相關論文發表于《Biophysical Journal》。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫療公司提供了利用其功能的機會。湖北德國POLOS桌面無掩模光刻機讓你隨意進行納米圖案化