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入門的定焦鏡頭當然以50為優先。古典的三鏡組合是這樣子的：35、50、135，有了這三個鏡頭，足可應付大多數的場合需要。日后若有需要，再作擴充。定焦鏡頭另外提供幾個不同的組合給大家參考。愛拍風景的人可以考慮的三鏡組合為24、35（用35代替50）、135。愛拍...

手動光圈變焦鏡頭焦距可變的，有一個焦距調整環，可以在一定范圍內調整鏡頭的焦距，其可變比一般為2 ～3倍，焦距一般為3.6~8mm。實際應用中，可通過手動調節鏡頭的變焦環，可以方便地選擇被監視地市場的市場角。但是當攝像機安裝位置固定下以后，在頻繁地手動調整變焦是...

浸沒式光刻機是通過在物鏡與晶圓之間注入超純水，等效縮短光源波長并提升數值孔徑，從而實現更高分辨率的半導體制造**設備。2024年9月工信部文件顯示，國產氟化氬浸沒式光刻機套刻精度已達到≤8nm水平。該技術研發涉及浸液系統、光學控制等多項復雜工藝，林本堅團隊在浸...

廣角鏡頭是一種焦距短于標準鏡頭、視角大于標準鏡頭、焦距長于魚眼鏡頭、視角小于魚眼鏡頭的攝影鏡頭。廣角鏡頭又分為普通廣角鏡頭和超廣角鏡頭兩種。普通廣角鏡頭的焦距一般為38－24毫米，視角為60－84度；超廣角鏡頭的焦距為20－13毫米，視角為94-118度。由于...

所有實際電子束曝光、顯影后圖形的邊緣要往外擴展，這就是所謂的“電子束鄰近效應。同時，半導體基片上如果有絕緣的介質膜，電子通過它時也會產生一定量的電荷積累，這些積累的電荷同樣會排斥后續曝光的電子，產生偏移，而不導電的絕緣體（如玻璃片）肯定不能采用電子束曝光。還有...

光刻膠（Photoresist）又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。在光刻工藝過程中，用作抗腐蝕涂層材料。半導體材料在表面加工時...

光刻是平面型晶體管和集成電路生產中的一個主要工藝。是對半導體晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)進行開孔，以便進行雜質的定域擴散的一種加工技術。一般的光刻工藝要經歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕、檢測等工序。硅片清洗烘干方...

我們建議攝影入門用戶在攝影學習階段，除了相機上已經配備的套裝鏡頭之外，不必再購買任何鏡頭。以后成為“高手”時，再考慮較長焦距的鏡頭。即使到那時，除非對遠攝鏡頭具有特殊的需求，并且資金也不成問題，否則我們建議不要考慮超過200mm的任何鏡頭。如果偶爾需要遠攝鏡頭...

主要技術指標：○精密壓力表測量范圍、精確度等級○型號、彈簧管材料、測量范圍MPa、精確度等級、結構特點○精密壓力表使用環境條件：5～40℃，相對濕度不大于80%，且環境震動和壓力源的波動對儀表的精確讀數無影響。○精密壓力表溫度影響：使用環境溫度如偏離20±3℃...

決定光刻膠涂膠厚度的關鍵參數：光刻膠的黏度（Viscosity），黏度越低，光刻膠的厚度越薄；旋轉速度，速度越快，厚度越薄；影響光刻膠均勻性的參數：旋轉加速度，加速越快越均勻；與旋轉加速的時間點有關。一般旋涂光刻膠的厚度與曝光的光源波長有關（因為不同級別的曝光...

德瑞克·約翰·德索拉·普萊斯經過前人數十年為了了解該裝置的研究后，1951年英國科學歷史學家德瑞克·約翰·德索拉·普萊斯對該機械進行了系統性研究。普萊斯以標題“時鐘以前的發條裝置”（Clockwork before the Clock）和“發條裝置的由來”（O...

33、固定板固定板是固定凸模的板狀零件。34、固定卸料板固定卸料板是固定在沖模上位置不動的卸料板。(參閱“卸料板”)。35、固定擋料銷（板）固定擋料銷（板）是在模具內固定不動的擋料銷（板）。(參閱“擋料銷（板）”)。36、卸件器卸件器是從凸模外表面卸脫工（序）...

舉例來說，對某一確定的被攝體，水平方向需要200個像素才能再現其細節，如果成像寬度為10mm，則光學分辨率為20線/mm的鏡頭就能勝任，如果成像寬度為1mm，則要求鏡頭的光學分辨率必須在200線/毫米以上。另一方面，傳統膠卷對紫外線比較敏感，外拍時常需要加裝U...

此前人們認為該裝置是古希臘人使用的一種計算器，用來描繪天空中行星的運行軌跡，以幫助當時的人識別方向。然而，科學家們現在**了這部裝置表面破損的銘文后發現，它實際上是用來研究**的。安提基特拉機械裝置是其同時代的一個孤例。它憑一己之力改寫了我們對古希臘技術的認知...

光致抗蝕劑，簡稱光刻膠或抗蝕劑，指光照后能改變抗蝕能力的高分子化合物。光蝕劑分為兩大類。①正性光致抗蝕劑：受光照部分發生降解反應而能為顯影液所溶解。留下的非曝光部分的圖形與掩模版一致。正性抗蝕劑具有分辨率高、對駐波效應不敏感、曝光容限大、***密度低和無毒性等...

光刻系統是一種用于半導體器件制造的精密科學儀器，是制備高性能光電子和微電子器件不可或缺的**工藝設備 [1] [6-7]。其技術發展歷經紫外（UV）、深紫外（DUV）到極紫外（EUV）階段，推動集成電路制程不斷進步 [3] [6]。當前**的EUV光刻系統已實...

魚眼鏡頭的體積較大。以適用于35毫米單鏡頭反光照相機的魚眼鏡頭為例，當將這種魚眼鏡頭安裝在體積較小的35毫米單鏡頭反光照相機機身上時，有一種“頭（鏡頭）大身體（機身）小”的感覺，且由于魚眼鏡頭重量不輕（如尼柯爾6毫米/F2.8手動對焦魚眼鏡頭重達5200克），...

廣角鏡頭又稱短鏡頭。攝影輔助鏡頭的一種。鏡頭焦距***地小于像場直徑(底片對角線長度)，約為6～35毫米;視角大于標準鏡頭，約為53°以上直至220°。相對口徑一般較小。廣角透鏡在十九世紀六十年代快直光鏡頭出現后即產生，此后經種種演變，已成攝影鏡頭中一個重要類...

用廣角鏡頭拍攝的畫面。能在突出**主體和前景的同時，能有***的背景。可以在較小的環境里，拍到較多的景物，在相同的拍攝距離時，得到的景象比用標準鏡頭拍攝的要小。當拍攝較近的景物時，會產生******變形，還會使前后景物之間的距離感增大。由于它的景深長，很容易把...

使用長焦距鏡頭拍攝具有以下幾個方面的特點：一是視角小。所以，拍攝的景物空間范圍也小，在相同的拍攝距離處，所拍攝的影像大于標準鏡頭，適用于拍攝遠處景物的細部和拍攝不易接近的被攝體。二是景深短。所以，能使處于雜亂環境中的被攝主體得到突出。但給精確調焦帶來了一定的困...

能強調前景和突出遠近對比。這是廣角鏡頭的另一個重要性能。所謂強調前景和突出遠近對比，是指廣角鏡頭能比其他鏡頭更加強調近大遠小的對比度。也就是說，用廣角鏡頭拍出來的照片，近的東西更大，遠的東西更小，從而讓人感到拉開了距離，在縱深方向上產生強烈的******效果。...

電子束光刻基本上分兩大類，一類是大生產光掩模版制造的電子束曝光系統，另一類是直接在基片上直寫納米級圖形的電子束光刻系統。電子束光刻技術起源于掃描電鏡，**早由德意志聯邦共和國杜平根大學的G．Mollenstedt等人在20世紀60年代提出。電子束曝光的波長取決...

能強調前景和突出遠近對比。這是廣角鏡頭的另一個重要性能。所謂強調前景和突出遠近對比，是指廣角鏡頭能比其他鏡頭更加強調近大遠小的對比度。也就是說，用廣角鏡頭拍出來的照片，近的東西更大，遠的東西更小，從而讓人感到拉開了距離，在縱深方向上產生強烈的******效果。...

光刻系統SUSS是一種應用于半導體制造領域的工藝試驗儀器，其比較大基片尺寸為6英寸，可實現0.5μm的分辨率和1μm的**小線寬 [1]。該系統通過精密光學曝光技術完成微電子器件的圖形轉移，為集成電路研發和生產提供關鍵工藝支持。比較大基片處理能力：支持直徑6英...

2006年時，萊特完成了他相信幾乎正確的復制品。萊特和安提基特拉機械研究計劃成員仍同時進行安提基特拉機械的研究。萊特稍微修改他的模型，引進了計劃團隊建議的針狀和槽狀嚙合齒輪，這更精確模擬了月球的角速度異常變化。2007年3月6日他在希臘的雅典國家考古博物館展示...

EUV光刻系統的發展歷經應用基礎研究至量產四個階段，其突破得益于多元主體協同創新和全產業鏈資源整合 [3]。截至2024年12月，EUV技術已應用于2nm芯片量產，但仍需優化光源和光刻膠性能。下一代技術如納米壓印和定向自組裝正在研發中 [6]。**光刻系統主要...

**普通的正膠顯影液是四甲基氫氧化銨（TMAH）（標準當量濃度為0.26，溫度15～25C）。在I線光刻膠曝光中會生成羧酸，TMAH顯影液中的堿與酸中和使曝光的光刻膠溶解于顯影液，而未曝光的光刻膠沒有影響；在化學放大光刻膠（CAR，Chemical Ampli...

四是，鏡頭的焦距越長，相機就必須把握得越穩定，以避免影像模糊。經驗準則是只有當快門速度至少等于鏡頭焦距毫米數的倒數時才能夠手持鏡頭進行拍攝，也稱為“安全快門”。也就是說，當快門速度低于1/100秒時就不能手持100mm鏡頭拍攝，低于1/500秒時就不能手持50...

光刻系統SUSS是一種應用于半導體制造領域的工藝試驗儀器，其比較大基片尺寸為6英寸，可實現0.5μm的分辨率和1μm的**小線寬 [1]。該系統通過精密光學曝光技術完成微電子器件的圖形轉移，為集成電路研發和生產提供關鍵工藝支持。比較大基片處理能力：支持直徑6英...

廣角鏡頭又分為普通廣角鏡頭和超廣角鏡頭兩種。135照相機普通廣角鏡頭的焦距一般為38－24毫米，視角為60－84度；超廣角鏡頭的焦距為20－13毫米，視角為94-118度。由于廣角鏡頭的焦距短，視角大，在較短的拍攝距離范圍內，能拍攝到較大面積的景物。所以，**...