在晶圓切割的批量一致性控制方面，中清航科采用統(tǒng)計過程控制（SPC）技術。設備實時采集每片晶圓的切割尺寸數(shù)據(jù)，通過 SPC 軟件進行分析，繪制控制圖，及時發(fā)現(xiàn)過程中的異常波動，并自動調整相關參數(shù)，使切割尺寸的標準差控制在 1μm 以內，確保批量產(chǎn)品的一致性。針對薄晶圓切割后的搬運難題，中清航科開發(fā)了無損搬運系統(tǒng)。采用特制的真空吸盤與輕柔的取放機構，配合視覺引導，實現(xiàn)薄晶圓的平穩(wěn)搬運，避免搬運過程中的彎曲與破損。該系統(tǒng)可集成到切割設備中，也可作為單獨模塊與其他設備對接，提高薄晶圓的處理能力。中清航科切割機遠程診斷系統(tǒng)，故障排除時間縮短70%。湖州芯片晶圓切割藍膜

中清航科設備搭載AI參數(shù)推薦引擎，通過分析晶圓MAP圖自動匹配切割速度、進給量及冷卻流量。機器學習模型基于10萬+案例庫持續(xù)優(yōu)化，將工藝調試時間從48小時縮短至2小時，快速響應客戶多品種、小批量需求。SiC材料硬度高、脆性大，傳統(tǒng)切割良率不足80%。中清航科采用激光誘導劈裂技術（LIPS），通過精確控制激光熱影響區(qū)引發(fā)材料沿晶向解理，切割速度達200mm/s，崩邊<10μm，滿足新能源汽車功率器件嚴苛標準。中清航科提供從晶圓貼膜、切割到清洗的全流程自動化方案。機械手聯(lián)動精度±5μm，兼容SECS/GEM協(xié)議實現(xiàn)MES系統(tǒng)對接。模塊化設計支持產(chǎn)能彈性擴展，單線UPH（每小時產(chǎn)能）提升至120片，人力成本降低70%。南通碳化硅線晶圓切割代工廠中清航科等離子切割技術處理氮化鎵晶圓，熱影響區(qū)減少60%。

針對高粘度晶圓切割液的回收處理，中清航科研發(fā)了離心式過濾凈化系統(tǒng)。該系統(tǒng)通過三級過濾工藝，可去除切割液中 99.9% 的固體顆粒雜質，使切割液循環(huán)利用率提升至 80% 以上，不只降低耗材成本，還減少廢液排放。同時配備濃度自動調節(jié)功能，確保切割液性能穩(wěn)定，保障切割質量一致性。在晶圓切割設備的維護便捷性設計上，中清航科秉持 “易維護” 理念。設備關鍵部件采用模塊化設計，更換激光頭、切割刀片等中心組件只需 15 分鐘，較傳統(tǒng)設備縮短 70% 維護時間。同時配備維護指引系統(tǒng)，通過 AR 技術直觀展示維護步驟，降低對專業(yè)維護人員的依賴，減少客戶運維壓力。

隨著 Chiplet 技術的興起，晶圓切割需要更高的位置精度以保證后續(xù)的異構集成。中清航科開發(fā)的納米級定位切割系統(tǒng)，采用氣浮導軌與光柵尺閉環(huán)控制，定位精度達到 ±0.1μm，配合雙頻激光干涉儀進行實時校準，確保切割道位置與設計圖紙的偏差不超過 0.5μm，為 Chiplet 的高精度互聯(lián)奠定基礎。中清航科深諳半導體設備的定制化需求，可為客戶提供從工藝驗證到設備交付的全流程服務。其技術團隊會深入了解客戶的晶圓規(guī)格、材料特性與產(chǎn)能要求，定制專屬切割方案，如針對特殊異形 Die 的切割路徑優(yōu)化、大尺寸晶圓的分片切割策略等，已成功為多家頭部半導體企業(yè)完成定制化項目交付。中清航科推出晶圓切割應力模擬軟件，提前預判崩邊風險。

針對晶圓切割過程中的靜電防護問題，中清航科的設備采用全流程防靜電設計。從晶圓上料的導電吸盤到切割區(qū)域的離子風扇，再到下料區(qū)的防靜電輸送軌道，形成完整的靜電防護體系，將設備表面靜電電壓控制在 50V 以下，有效避免靜電對敏感芯片造成的潛在損傷。中清航科的晶圓切割設備具備強大的數(shù)據(jù)分析能力，內置數(shù)據(jù)挖掘模塊可對歷史切割數(shù)據(jù)進行深度分析，識別影響切割質量的關鍵因素，如環(huán)境溫度波動、晶圓批次差異等，并自動生成工藝優(yōu)化建議。通過持續(xù)的數(shù)據(jù)積累與分析，幫助客戶不斷提升切割工藝水平，實現(xiàn)持續(xù)改進。切割機預測性維護平臺中清航科上線，關鍵部件壽命預警準確率99%。杭州晶圓切割刀片

晶圓切割培訓課程中清航科每月開放，已認證工程師超800名。湖州芯片晶圓切割藍膜

晶圓切割作為半導體制造流程中的關鍵環(huán)節(jié)，直接影響芯片的良率與性能。中清航科憑借多年行業(yè)積淀，研發(fā)出高精度激光切割設備，可實現(xiàn)小切割道寬達 20μm，滿足 5G 芯片、車規(guī)級半導體等領域的加工需求。其搭載的智能視覺定位系統(tǒng)，能實時校準晶圓位置偏差，將切割精度控制在 ±1μm 以內，為客戶提升 30% 以上的生產(chǎn)效率。在半導體產(chǎn)業(yè)快速迭代的當下，晶圓材料呈現(xiàn)多元化趨勢，從傳統(tǒng)硅基到碳化硅、氮化鎵等寬禁帶半導體，切割工藝面臨更大挑戰(zhàn)。中清航科針對性開發(fā)多材料適配切割方案，通過可調諧激光波長與動態(tài)功率控制技術，完美解決硬脆材料切割時的崩邊問題，崩邊尺寸可控制在 5μm 以下，助力第三代半導體器件的規(guī)模化生產(chǎn)。湖州芯片晶圓切割藍膜