沉積 / 刻蝕腔體及部件清潔清潔對象:CVD(化學(xué)氣相沉積)腔體、PVD(物***相沉積)靶材、刻蝕機(jī)反應(yīng)室(內(nèi)壁、噴頭、電極)。污染問題:沉積過程中,薄膜材料(如 SiO?、SiN、金屬 Cu/Al)會在腔體壁、靶材邊緣沉積,形成 “結(jié)垢層”,積累到一定厚度會剝落并污染晶圓;刻蝕反應(yīng)室中,等離子體與晶圓反應(yīng)生成的聚合物(如 CF?刻蝕硅產(chǎn)生的 CxFy)會附著在噴頭和電極表面,導(dǎo)致刻蝕速率不均勻。干冰清洗作用:無需拆卸腔體(傳統(tǒng)清潔需拆解,耗時 4-8 小時,且可能引入外界污染),通過酷爾森icestorm干冰顆粒的沖擊和低溫脆化效應(yīng),使結(jié)垢層(硬度較高的陶瓷或金屬薄膜)與腔體基材分離,隨氣流排出。保護(hù)腔體內(nèi)部精密部件(如石英噴頭、金屬電極):控制干冰顆粒尺寸(3-5mm)和壓力(0.3-0.6MPa),可去除靶材邊緣的沉積殘留,同時不損傷靶材表面(靶材精度直接影響沉積薄膜的均勻性)。利用干冰清洗,功能優(yōu)異突出,清潔力度恰到好處。流程規(guī)范有序,優(yōu)勢多多。河南進(jìn)口干冰清洗生產(chǎn)商
極片輥壓、分切后的表面清潔清潔對象:輥壓后的極片表面、分切后的極片邊緣。污染問題:輥壓過程中極片表面可能殘留微量電解液(預(yù)涂時)或粉塵;分切(激光分切或機(jī)械分切)后邊緣易產(chǎn)生毛刺、粉末,若殘留會導(dǎo)致電芯疊片 / 卷繞時短路風(fēng)險升**冰清洗作用:以低壓力(0.1-0.3MPa)噴射干冰,可精細(xì)去除極片表面附著的粉塵和細(xì)小毛刺,且不損傷極片(極片厚度通常* 10-100μm),避免傳統(tǒng)毛刷清潔可能產(chǎn)生的二次污染或機(jī)械損傷。電芯組裝環(huán)節(jié)的清潔電芯組裝(疊片 / 卷繞、封裝、注液前)對環(huán)境潔凈度要求極高,任何雜質(zhì)(如金屬碎屑、粉塵、油污)都可能引發(fā)微短路或熱失控。1. 疊片 / 卷繞工裝與夾具清潔清潔對象:疊片臺、定位夾具、卷繞機(jī)導(dǎo)輥、隔膜導(dǎo)輪等。污染問題:極片搬運(yùn)過程中,工裝表面易附著極片粉末(如石墨、金屬氧化物)、隔膜碎屑或油污,導(dǎo)致極片定位偏移、隔膜褶皺,影響電芯對齊度。酷爾森icestorm干冰清洗作用:非接觸式清潔,可深入夾具縫隙和導(dǎo)輪凹槽,徹底去除粉末和油污,且干冰升華后無殘留,無需擔(dān)心污染物落入電芯內(nèi)部,保障疊片 / 卷繞精度。貴州氣動干冰清洗生產(chǎn)商清洗電線、電路、管道等敏感區(qū)域,就選酷爾森干冰清洗!不僅清潔力驚人,而且無損傷、不腐蝕、無殘留!
電芯殼體與蓋板清潔清潔對象:鋁殼 / 鋼殼內(nèi)壁、蓋板(極柱、防爆閥區(qū)域)。污染問題:殼體沖壓或焊接后可能殘留金屬碎屑、切削液;蓋板表面可能有油污、指紋或焊接飛濺物,若未去除,會污染電解液或?qū)е路庋b密封不良。干冰清洗作用:高效剝離金屬碎屑和油污,且不損傷殼體表面(尤其適配鋁殼的陽極氧化層),避免傳統(tǒng)水洗帶來的水分殘留(鋰電生產(chǎn)需嚴(yán)格控制水分,水分會與電解液反應(yīng)產(chǎn)生有害氣體)。3. 焊接區(qū)域清潔(激光焊接 / 超聲波焊接)清潔對象:極耳焊接點(diǎn)、蓋板與殼體焊接縫。污染問題:焊接后易殘留金屬飛濺物(如鋁渣、銅渣)、氧化層,若殘留于電芯內(nèi)部,可能刺穿隔膜引發(fā)短路;若附著于焊接縫,會影響密封性檢測精度。酷爾森icestorm干冰清洗作用:精細(xì)去除焊接飛濺物和氧化層,且不損傷極耳(極耳厚度通常* 0.1-0.3mm)或焊接結(jié)構(gòu),保障焊接強(qiáng)度和后續(xù)密封性。
酷爾森的干冰清洗技術(shù)相對于傳統(tǒng)方法的明顯優(yōu)勢非破壞性:非研磨: 干冰顆粒在撞擊后會升華消失,不會像噴砂(沙子、塑料粒)那樣磨損焊盤、絲印、元器件引腳或基板本身。無化學(xué)腐蝕: 不使用任何化學(xué)溶劑,避免了溶劑對元器件的潛在腐蝕(如電解電容、連接器塑膠)、對標(biāo)簽/油墨的溶解以及對環(huán)境的危害。無水分侵入: 完全干燥的過程,杜絕了水洗帶來的水分殘留風(fēng)險(可能導(dǎo)致電化學(xué)遷移、短路、腐蝕),特別適合清洗后不能或不方便烘干的板卡(如帶有密封性不佳的元件、傳感器、電池的PCBA)。低應(yīng)力: 物理沖擊力可控,遠(yuǎn)低于超聲波清洗產(chǎn)生的空化力,**降低了對精密、脆弱元器件(如晶振、陶瓷電容、MEMS器件、微型連接器)或已存在微裂紋的焊點(diǎn)造成損傷的風(fēng)險。無需拆卸:可以在組裝好的狀態(tài)下直接清洗,無需拆卸屏蔽罩、散熱器或敏感元件(前提是它們能承受低溫沖擊),節(jié)省大量時間和人力成本。深入清潔:干冰顆粒能有效進(jìn)入傳統(tǒng)方法難以觸及的區(qū)域,如高密度IC引腳之間、BGA/QFN封裝底部與PCB之間的狹窄縫隙、連接器內(nèi)部、散熱片鰭片下方等。干冰清洗的功能強(qiáng)大可靠,清潔速度快。流程科學(xué)高效,優(yōu)勢眾多。
PACK 組裝與電池組維護(hù)在電池 PACK(模組組裝、Pack 殼體清潔)及退役電池回收前的預(yù)處理中,干冰清洗可解決以下問題:1. 模組連接件與殼體清潔清潔對象:電芯間連接片(銅排、鋁排)、Pack 殼體內(nèi)部。污染問題:連接片表面可能有氧化層、油污,影響導(dǎo)電性能;殼體內(nèi)部可能殘留粉塵、膠黏劑殘渣,影響模組裝配精度。酷爾森icestorm干冰清洗作用:去除氧化層和油污,提升連接片導(dǎo)電性;清潔殼體死角,避免雜質(zhì)影響模組散熱或絕緣性能。2. 退役電池拆解前的預(yù)處理清潔對象:退役電芯表面、殼體。污染問題:退役電池表面可能附著電解液殘留、粉塵或腐蝕物,拆解時易導(dǎo)致污染物擴(kuò)散。干冰清洗作用:安全去除表面污染物,避免拆解過程中的二次污染,同時不損傷電芯結(jié)構(gòu),為后續(xù)材料回收(如正極材料、銅箔、鋁箔)提供潔凈基礎(chǔ)。生產(chǎn)設(shè)備與環(huán)境維護(hù)鋰電生產(chǎn)設(shè)備(如潔凈室管道、自動化機(jī)器人、檢測儀器)的清潔直接影響生產(chǎn)穩(wěn)定性:潔凈室管道與風(fēng)淋系統(tǒng):去除管道內(nèi)的粉塵、微生物殘留,避免污染潔凈環(huán)境;清潔風(fēng)淋室噴嘴,保障氣流均勻性。自動化設(shè)備部件:如機(jī)械臂抓手、移栽機(jī)構(gòu),去除表面附著的極片粉末或膠黏劑,避免對電芯造成二次污染。干冰清洗能快速清潔頑固污垢,流程環(huán)保高效。優(yōu)勢眾多,是現(xiàn)代清潔的好選擇。湖北氣動干冰清洗價目表
利用干冰清洗,功能表現(xiàn)出色,清潔不留痕跡。流程便捷高效,優(yōu)勢眾多。河南進(jìn)口干冰清洗生產(chǎn)商
封裝模具與載板清潔清潔對象:塑封模具(型腔、澆道)、晶圓載板(Wafer Carrier)。污染問題:塑封過程中,環(huán)氧樹脂(封裝材料)會在模具型腔殘留、固化,導(dǎo)致封裝體出現(xiàn)飛邊、缺膠;載板表面若有焊錫殘渣、粉塵,會影響晶圓定位精度。干冰清洗作用:干冰的低溫使殘留環(huán)氧樹脂脆化,輕松剝離模具死角(如型腔拐角、澆道狹窄處)的固化物,無需使用脫模劑(傳統(tǒng)脫模劑可能污染芯片)。清潔載板表面的微小焊錫顆粒和粉塵,保障晶圓在測試或封裝時的定位精度(誤差需控制在 ±5μm 內(nèi))。半導(dǎo)體設(shè)備與潔凈室維護(hù)半導(dǎo)體生產(chǎn)依賴大量精密設(shè)備(如光刻機(jī)、量測儀器)和 Class 1 級潔凈室,其清潔直接影響生產(chǎn)穩(wěn)定性:1. 精密設(shè)備部件清潔光刻機(jī)光學(xué)系統(tǒng):清潔鏡頭表面的油污、粉塵(鏡頭精度達(dá)納米級,任何污染都會影響曝光精度),酷爾森的干冰顆粒(1μm 以下)可在不接觸鏡頭的情況下去除污染物,避免劃傷鍍膜層。自動化機(jī)械臂:清潔機(jī)械臂抓手(End Effector)表面的晶圓殘留顆粒(如硅粉),避免對下一片晶圓造成二次污染。量測儀器探頭:如膜厚儀、橢偏儀的檢測探頭,去除表面的有機(jī)污染物,保障量測數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性(誤差需≤0.1nm)。河南進(jìn)口干冰清洗生產(chǎn)商