干冰清洗作用:采用超細干冰顆粒(1-3μm) 配合極低壓力(0.05-0.2MPa) 噴射,利用干冰的低溫(-78.5℃)使表面污染物脆化,同時通過壓縮空氣的動能剝離顆粒,且干冰升華后*產(chǎn)生 CO?氣體(惰性,不與光罩材料反應(yīng)),無任何殘留。無需接觸光罩表面,避免機械劃傷;無水分引入,適配光罩對 “***干燥” 的要求(水分可能導致表面氧化或殘留水漬)。2. 晶圓表面預處理與中間清潔清潔對象:未加工晶圓(裸片)、沉積 / 刻蝕后的晶圓表面。污染問題:裸片表面可能殘留切割后的硅粉、金屬雜質(zhì)(如 Fe、Cu),影響后續(xù)氧化層(SiO?)生長的均勻性;沉積(CVD/PVD)后,晶圓表面可能附著未反應(yīng)的靶材顆粒(如 Al、Cu);刻蝕(等離子刻蝕)后可能殘留聚合物殘渣(如氟碳聚合物),若未去除會導致后續(xù)薄膜層間結(jié)合不良。酷爾森icestorm干冰清洗作用:針對裸片:去除表面微米級硅粉和金屬顆粒,且不損傷晶圓表面的原子級平整度(Ra≤0.1nm);針對刻蝕后殘留:利用干冰低溫使聚合物殘渣脆化(聚合物在低溫下硬度提升 3-5 倍),通過精細噴射壓力(0.1-0.3MPa)剝離,避免傳統(tǒng)等離子清洗可能導致的晶圓表面刻蝕過度。運用干冰清洗,功能實用,清潔范圍廣。流程簡潔明了,優(yōu)勢突出。安徽智能干冰清洗賣價
酷爾森環(huán)保科技(上海)有限公司干冰清洗技術(shù)要點與挑戰(zhàn)工藝參數(shù)精密控制:壓力: 通常使用較低壓力(如 2-10 bar),遠低于常規(guī)工業(yè)干冰清洗,以避免對精密部件造成損傷或?qū)е挛⒘G度胲浶圆牧稀8杀w粒尺寸: 使用非常細小的顆粒(如米粒級或更細),以獲得更溫和、更精細的清潔效果。噴射距離與角度: 需要精確控制噴嘴到目標的距離和噴射角度,優(yōu)化清潔效率同時**小化潛在影響。流量: 根據(jù)污染程度和部件敏感度調(diào)節(jié)干冰流量。微粒控制:干冰沖擊會將污染物打散成更小的微粒。因此,高效的真空回收系統(tǒng)是必不可少的配套設(shè)備,必須能即時、徹底地吸走剝離下來的污染物和升華的CO?氣體,防止二次污染。系統(tǒng)需要高過濾效率(HEPA/ULPA級別)。靜電控制:高速氣流和干冰顆粒撞擊可能產(chǎn)生靜電。在半導體潔凈室環(huán)境中,需要考慮靜電消散措施,如使用防靜電噴嘴、接地設(shè)備、或引入可控的電離氣流。材料兼容性:雖然對大多數(shù)硬質(zhì)材料安全,但對于非常脆弱的涂層、軟性金屬(如金線)、裸露的精密電路、某些塑料或復合材料,仍需進行嚴格的兼容性測試,確認不會造成損傷(如微凹痕、劃痕、涂層剝離)。河南德國原裝干冰清洗服務(wù)費酷爾森干冰清洗可應(yīng)用于電路板清洗領(lǐng)域,不傷板、無廢水、無殘留、環(huán)保可靠,清洗完,煥然如新!
SMARTHD高效干冰清洗機的優(yōu)點經(jīng)久耐用:憑借其堅固的不銹鋼機身和陽極氧化鋁儀表板,這款機器經(jīng)久耐用。高效清潔:采用易于使用的西門子PLC,可準精控制干冰進料和壓力,每次都能實現(xiàn)高效清潔。方便操作:易于使用的儀表板允許直觀控制,使您能夠快速有效地清潔各種表面和設(shè)備。SMARTHD是尋求經(jīng)濟高效且用途***的干冰噴射機的理想選擇。它在性能和經(jīng)濟性之間取得了完美的平衡。立即使用SMARTHD干冰噴射機,升級您的清潔流程,感受它為您的業(yè)務(wù)帶來的不同體驗。
工具與治具清潔:晶圓載具: 清潔用于傳輸和存儲晶圓的卡匣、FOUP/FOSB門、內(nèi)部表面上的微粒、有機物殘留和靜電吸附的灰塵。機器人手臂末端執(zhí)行器: 清潔用于搬運晶圓的機械手上的微粒和污染物,防止污染晶圓。工藝腔室內(nèi)的夾具和基座: 去除靜電卡盤、固定裝置等表面的沉積物。封裝與測試環(huán)節(jié):模具、封裝設(shè)備部件: 清潔封裝設(shè)備(如鍵合機、塑封機)模具表面、頂針、傳送帶等部件上的溢料、脫模劑殘留、環(huán)氧樹脂等。測試插座、探針卡: 去除探針卡、測試插座接觸點上的氧化物、有機物殘留、助焊劑殘留等,確保良好的電接觸。需要極其精細的控制以避免損壞精密探針。PCB板/基板預處理: 在鍵合或組裝前,清潔PCB或基板表面的氧化物、指紋、油脂等輕微污染物。酷爾森環(huán)保科技(上海)有限公司的干冰清洗技術(shù)在芯片(半導體)制造行業(yè)中的應(yīng)用是一種高效、精密且環(huán)保的清潔方法,尤其適用于對污染極度敏感、不能接觸液體或化學溶劑、且需要避免物理損傷的精密設(shè)備和組件。見證酷爾森干冰清洗的魔力!噴頭過一遍,多年的沉積污垢,仿佛按了一鍵還原,嶄新如初,連縫隙都干干凈凈。
沉積 / 刻蝕腔體及部件清潔清潔對象:CVD(化學氣相沉積)腔體、PVD(物***相沉積)靶材、刻蝕機反應(yīng)室(內(nèi)壁、噴頭、電極)。污染問題:沉積過程中,薄膜材料(如 SiO?、SiN、金屬 Cu/Al)會在腔體壁、靶材邊緣沉積,形成 “結(jié)垢層”,積累到一定厚度會剝落并污染晶圓;刻蝕反應(yīng)室中,等離子體與晶圓反應(yīng)生成的聚合物(如 CF?刻蝕硅產(chǎn)生的 CxFy)會附著在噴頭和電極表面,導致刻蝕速率不均勻。干冰清洗作用:無需拆卸腔體(傳統(tǒng)清潔需拆解,耗時 4-8 小時,且可能引入外界污染),通過酷爾森icestorm干冰顆粒的沖擊和低溫脆化效應(yīng),使結(jié)垢層(硬度較高的陶瓷或金屬薄膜)與腔體基材分離,隨氣流排出。保護腔體內(nèi)部精密部件(如石英噴頭、金屬電極):控制干冰顆粒尺寸(3-5mm)和壓力(0.3-0.6MPa),可去除靶材邊緣的沉積殘留,同時不損傷靶材表面(靶材精度直接影響沉積薄膜的均勻性)。干冰清洗發(fā)揮強大功能,清潔不留痕。其流程合理,優(yōu)勢為企業(yè)降本增效。遼寧德國原裝干冰清洗銷售
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選擇建議:按場景匹配嚴苛無水環(huán)境+多功能需求 → Coulson IceStorm45(如電力檢修、精密實驗室)。大型連續(xù)作業(yè)+環(huán)保優(yōu)先 → Coulson IceStorm90(如食品廠、船舶維護)。精密電子/光學清洗 → 優(yōu)先 TOOICE SP27D 或 德國 ICS(微顆粒控制)。成本敏感+本土服務(wù) → 迪史潔 DSJet(售后響應(yīng)快,適配中小產(chǎn)線)。行業(yè)趨勢:濕冰技術(shù)因 節(jié)水 95% 以上 和 三重清潔機制(固/液/氣態(tài)協(xié)同),在食品、制藥等潔凈需求高的領(lǐng)域逐步替代傳統(tǒng)清洗。未來設(shè)備將更注重 能源優(yōu)化(如 Coulson 的節(jié)能噴嘴設(shè)計)和 自動化集成。安徽智能干冰清洗賣價